特許

J-GLOBAL ID：200903001371962990

微粒子配列体薄膜及びその製造方法、並びに、微粒子配列体薄膜製造装置

発明者： 石井 昌彦 ,  中村 浩
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (2件)： 畠山 文夫 ,  小林 かおる
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-016890
公開番号（公開出願番号）：特開2006-208453
出願日： 2005年01月25日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：

【課題】 液漏れによる特性変化がなく、振動に強く、膜面内の結晶方位が揃っており、クラックが少なく、かつ、面積の大きい微粒子配列体薄膜及びその製造方法、並びに、このような微粒子配列体薄膜を作製可能な微粒子配列体薄膜製造装置を提供すること。【解決手段】 単分散微粒子が規則的に配列した薄膜を備え、膜面内の結晶方位が揃った周期構造を有し、かつ、クラックの面積率が8%以下である微粒子配列体薄膜。このような微粒子配列体薄膜は、空隙部18aの一端に第1の開口部18bを有し、他端に液だめ部16を有する微粒子配列体薄膜製造装置10を用いて、液だめ部16に微粒子分散液を注入し、第1の開口部18bから微粒子分散液に含まれる溶媒成分をゆっくり蒸発させ、空隙部18a内に一方向の流れを発生させることにより得られる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

単分散微粒子が規則的に配列した薄膜を備え、 膜面内の結晶方位が揃った周期構造を有し、かつ、 クラックの面積率が8%以下である 微粒子配列体薄膜。

IPC (4件)：

G02B 5/20 ,  B01J 19/00 ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/26

FI (4件)：

G02B5/20 ,  B01J19/00 K ,  G02B1/02 ,  G02B5/26

Fターム (15件)：

2H048FA04 ,  2H048FA05 ,  2H048FA09 ,  2H048FA15 ,  4G075AA24 ,  4G075BB02 ,  4G075BB10 ,  4G075BD16 ,  4G075CA02 ,  4G075EE12 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FC04

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 米国特許第4,632,517号公報
  
• 人工結晶体の製造方法および該方法を用いて製造した人工結晶ならびにそのための容器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-401625   出願人：株式会社リコー
• 人工結晶体の製造方法およびそれによる人工結晶体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-401626   出願人：株式会社リコー

審査官引用 (2件)

• 周期性構造物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-276626   出願人：株式会社リコー
• スルフィド基を有する化合物を用いたフォトニック結晶
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-332539   出願人：三菱瓦斯化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 外場応答性フォトニック結晶の作製と評価