特許
J-GLOBAL ID:200903001411361855

転写方法及び電子装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 角田 芳末 ,  磯山 弘信
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-220781
公開番号(公開出願番号):特開2006-041283
出願日: 2004年07月28日
公開日(公表日): 2006年02月09日
要約:
【課題】基板上に配列させた素子領域片を転写する転写方法において、素子領域片の境界で発生する輝度や波長などの素子特性の段差を緩和して素子全体としての高品質化を実現する。【解決手段】、基板上に複数の素子領域片10を配列する工程と、他の基板上に、隣接する前記素子領域片10、12同士の間の境界を挟んで前記素子領域片の領域内分布が対称となって2次元的に並べられるように前記素子領域片を転写する工程とを有する転写方法により、輝度や波長などの素子特性の段差を緩和する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板上に複数の素子領域片を配列する工程と、 他の基板上に、隣接する前記素子領域片同士の間の境界を挟んで前記素子領域片の領域内分布が対称となって2次元的に並べられるように前記素子領域片を転写する工程とを有することを特徴とする転写方法。
IPC (3件):
H01L 27/12 ,  H01L 21/02 ,  H01L 33/00
FI (2件):
H01L27/12 B ,  H01L33/00 N
Fターム (5件):
5F041AA10 ,  5F041AA11 ,  5F041DA92 ,  5F041DB08 ,  5F041FF06
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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