特許

J-GLOBAL ID：200903001458585778

液晶表示装置用基板及び液晶表示装置の製造方法

発明者： 美崎 克紀 ,  野中 一男
出願人/特許権者： 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社
代理人 (1件)： 森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-097371
公開番号（公開出願番号）：特開2004-302314
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】散乱反射面を形成する画素電極の凹凸を、パターニングすることなく形成する。【解決手段】基板3上に、熱硬化性の第1樹脂膜42及び熱硬化性の第2樹脂膜44を順次積層した積層絶縁膜58を形成し、第2樹脂膜44を第1樹脂膜42より硬化する第1硬化処理工程を経た後、積層絶縁膜58を第1及び第2樹脂膜42、44の硬化温度以上に加熱して硬化して、積層絶縁膜58の表面に凹凸を形成する第2硬化処理工程を行う。この第1の硬化処理は、例えば第1樹脂膜42の硬化温度未満での熱処理、又は第2樹脂膜44を選択的に硬化させるUV照射でなされる。【選択図】 図7

請求項（抜粋）：

上面に凹凸を有する基板上に光を乱反射する画素電極が形成されている液晶表示装置用基板の製造方法において、 該基板上に、熱硬化性の第1樹脂膜及び熱硬化性の第2樹脂膜が順次積層された積層絶縁膜を形成する工程と、 次いで、該第2樹脂膜を該第1樹脂膜よりも硬化する第1硬化処理工程と、 次いで、該積層絶縁膜を該第1及び該第2樹脂膜の硬化温度以上に加熱して硬化することで、該積層絶縁膜の表面に凹凸を形成する第2硬化処理工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。

IPC (4件)：

G02F1/1333 ,  H01L21/312 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

FI (5件)：

G02F1/1333 500 ,  H01L21/312 M ,  H01L29/78 612D ,  H01L29/78 619A ,  H01L29/78 616T

Fターム (59件)：

2H090JB02 ,  2H090JC03 ,  2H090JC07 ,  2H090JC08 ,  2H090LA04 ,  2H090LA10 ,  2H090LA16 ,  2H090LA20 ,  5F058AA03 ,  5F058AA06 ,  5F058AC07 ,  5F058AD11 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG03 ,  5F058AH02 ,  5F058AH05 ,  5F110AA16 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD13 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG25 ,  5F110GG45 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK06 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK22 ,  5F110HK35 ,  5F110HK41 ,  5F110HL03 ,  5F110HL04 ,  5F110HL11 ,  5F110HL14 ,  5F110HL27 ,  5F110NN03 ,  5F110NN04 ,  5F110NN05 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN35 ,  5F110NN36 ,  5F110NN40 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ01 ,  5F110QQ10 ,  5F110QQ12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 反射型液晶表示装置用電極基板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-095117   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開昭63-104001
  
• 反射型液晶表示装置の反射板製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-356687   出願人：光村印刷株式会社
• 反射型液晶表示装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-101755   出願人：富士通株式会社