特許
J-GLOBAL ID:200903001461919725
走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-231242
公開番号(公開出願番号):特開2003-043388
出願日: 2001年07月31日
公開日(公表日): 2003年02月13日
要約:
【要約】【課題】 高密度化された高性能な走査光学装置及び画像形成装置を形成する上でも高精度な同期検出器として充分対応できる走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。【解決手段】 光源手段、入射光学手段、偏向手段、走査光学手段、そして同期検出手段を有し、光源と同期検出器とは回動可能な同一の基板上に設けられており、同期検出器の光入射側に入射光束を制限するスリットが配置されており、同期検出用光学系はスリットに対し主走査断面内と副走査断面内のうち、少なくとも一方の断面内に光束を集光させる機能を有しており、各条件式のうちの1以上の条件を満たしていること。
請求項(抜粋):
光源手段から射出された光束を入射光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段により被走査面上に導光し、該被走査面上の光走査を、該被走査面上に入射する光束の一部を同期検出用光学系で同期検出手段に導き、該同期検出手段で得た同期信号を用いて行う走査光学装置において、該光源手段を構成する光源と、該同期検出手段を構成する同期検出器とは同一の基板上に設けられており、該基板は該入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構造であり、該同期検出器の光入射側に入射光束を制限するスリットが配置されており、該同期検出用光学系は該スリットに対し主走査断面内と副走査断面内のうち、少なくとも一方の断面内に光束を集光させる機能を有しており、該同期検出器の光入射側には光学素子が配置されており、該光学素子の副走査方向の焦点距離をf、該スリットから該同期検出器までの距離をW、該光学素子の有効径をD、該基板の回転中心から該同期検出器までの基板上での距離をd、該光源手段を出射した光束の該同期検出器に到達するまでの副走査方向の総合倍率をm、該基板の回転角をθとしたとき、0.6f<W<0.9f2d・tanθ(1-m)<Dの1以上の条件を満たしていることを特徴とする走査光学装置。
IPC (4件):
G02B 26/10
, B41J 2/44
, G02B 13/24
, H04N 1/113
FI (5件):
G02B 26/10 A
, G02B 26/10 B
, G02B 13/24
, B41J 3/00 D
, H04N 1/04 104 A
Fターム (25件):
2C362BB30
, 2C362DA28
, 2C362DA41
, 2H045CA88
, 2H045CA89
, 2H045DA02
, 2H087KA08
, 2H087KA19
, 2H087LA01
, 2H087PA02
, 2H087PA17
, 2H087PB02
, 2H087RA44
, 2H087RA45
, 5C072AA03
, 5C072BA03
, 5C072DA21
, 5C072DA23
, 5C072HA02
, 5C072HA06
, 5C072HA12
, 5C072HB08
, 5C072HB13
, 5C072XA01
, 5C072XA05
引用特許:
審査官引用 (7件)
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マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-276374
出願人:キヤノン株式会社
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光走査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-321562
出願人:株式会社リコー
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マルチビーム走査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-020258
出願人:キヤノン株式会社
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マルチビーム偏向走査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-208325
出願人:キヤノン株式会社
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光走査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-193137
出願人:キヤノン株式会社
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特開平3-218685
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特開平3-218685
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