特許

J-GLOBAL ID：200903001478961296

荷電粒子ビーム露光方法及び装置

発明者： 瀬戸 勇 ,  矢原 秀文
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-174642
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045807
出願日： 1994年07月26日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】ステップ変化するデジタル値又はアナログ波形の隣合う対応する端点間の補間を、より正確に行うことにより、露光位置精度を向上させる。【構成】スムージング回路43Bは、通常のサンプルホールド回路のスイッチ部に、定電流源432、433と、ダイオードブリッジ回路D1〜D4とを有し、入力電圧V2がコンデンサC5の電圧より高いと、ダイオードD2及びD3がオン、ダイオードD1及びD4がオフとなって、コンデンサC5の電圧が入力電圧V2に等しくなるまで、直線的に上昇する。この直線の傾きは、定電流源432及び433への制御電圧により可変である。

請求項（抜粋）：

ステップ変化するデジタル値又はアナログ波形の隣合う対応する端点間を、スムージング回路で略直線的に補間し、該スムージング回路の出力に基づいて偏向器で荷電粒子ビームを連続的に偏向させる荷電粒子ビーム露光装置であって、該スムージング回路は、該端点間の傾きに応じた制御信号が制御制御入力端に供給され、該制御信号により電流値が可変である定電流源と、一端が該定電流源に結合され、他端の電位が一定にされたコンデンサと、入力端が該コンデンサの該一端に結合された出力バッファ回路と、を有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭55-072032
  
• 電子線描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-005332   出願人：株式会社日立製作所
• 荷電粒子ビーム露光方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-103998   出願人：富士通株式会社