特許
J-GLOBAL ID:200903001518107536

パターン形成したセラミックスグリーンシートの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-141513
公開番号(公開出願番号):特開平10-075039
出願日: 1997年05月30日
公開日(公表日): 1998年03月17日
要約:
【要約】【課題】微細な導体パターンが可能となり、かつ低抵抗の導体パターンが得られ、セラミックス多層基板の内層導体の形成を可能にする。さらにセラミックス多層基板の小形化、高密度化を一層可能にする。【解決手段】フィルム上に感光性導電ペーストを用いてパターンの表面状態が表面粗さ試験においてRa≦3μmであるパターンを形成した後、該パターンをセラミックスグリーンシート上に転写することを特徴とするパターン形成したセラミックスグリーンシートの製造法。
請求項(抜粋):
フィルム上に感光性導電ペーストを用いてパターンの表面状態が表面粗さ試験においてRa≦3μmであるパターンを形成した後、該パターンをセラミックスグリーンシート上に転写することを特徴とするパターン形成したセラミックスグリーンシートの製造法。
IPC (3件):
H05K 3/20 ,  C04B 41/88 ,  H05K 1/09
FI (3件):
H05K 3/20 A ,  C04B 41/88 P ,  H05K 1/09 D
引用特許:
出願人引用 (2件)

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