焼鈍分離剤用酸化マグネシウム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：津国肇 , 篠田文雄 , 束田幸四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-345190
公開番号（公開出願番号）：特開2004-176144
出願日： 2002年11月28日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：

【課題】フォルステライト形成に優れた酸化マグネシウム焼鈍分離剤及び方向性電磁鋼板を提供すること。【解決手段】ホウ素を含有する焼鈍分離剤用酸化マグネシウムであって、該酸化マグネシウム中に含有されるホウ素中の三配位ホウ素の比率が、55〜70%であることを特徴とする焼鈍分離剤用酸化マグネシウム。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ホウ素を含有する焼鈍分離剤用酸化マグネシウムであって、該酸化マグネシウム中に含有されるホウ素中の三配位ホウ素の比率が、55〜70%であることを特徴とする焼鈍分離剤用酸化マグネシウム。

IPC (3件)：

C23C22/00 , C01F5/08 , C21D9/46

FI (3件)：

C23C22/00 A , C01F5/08 , C21D9/46 501B

Fターム (14件)：

4G076AA02 , 4G076BF07 , 4G076DA30 , 4K026AA03 , 4K026BA08 , 4K026BA12 , 4K026CA16 , 4K026CA18 , 4K026CA36 , 4K026DA02 , 4K026DA11 , 4K026EB11 , 4K033AA02 , 4K033TA02

引用特許：

審査官引用 (7件)

セラミック被膜形成剤およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-132642 出願人：株式会社海水化学研究所
特開昭54-033839
特開平1-177376

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