特許
J-GLOBAL ID：200903001621309945

超純水製造装置及び超純水製造方法

発明者：
古川 征弘

古川 征弘 について

, 
河上 恒雄

河上 恒雄 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-005411
公開番号（公開出願番号）：特開2006-192352
出願日： 2005年01月12日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】被処理水に紫外線を照射して酸化した後、パラジウム触媒と接触させて、溶存酸素を極低濃度にまで除去した超純水を製造するに当たり、装置の運転停止後の運転再開時において、装置の立ち上げ期間を短縮し、早期に低溶存酸素濃度の超純水の採水を行う。【解決手段】紫外線照射酸化装置とパラジウム触媒充填容器とを有し、被処理水に紫外線を照射して酸化した後、パラジウム触媒と接触させて、溶存酸素を除去した超純水を得る超純水製造装置において、パラジウム触媒充填容器への通水停止期間中に該充填容器内を加圧下に保持する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理水が導入される紫外線照射酸化装置と、該紫外線照射酸化装置の流出水が通水されるパラジウム触媒充填容器とを有し、該被処理水に紫外線を照射して酸化した後、パラジウム触媒と接触させることにより溶存酸素を除去した超純水を得る超純水製造装置において、 該パラジウム触媒充填容器への通水停止期間中に該充填容器内を加圧下に保持するようにしたことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (4件)：
C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72
FI (4件)：
C02F1/32 ,  C02F1/58 H ,  C02F1/70 Z ,  C02F1/72 101
Fターム (29件)：
4D037AA03 ,  4D037AB01 ,  4D037BA18 ,  4D037CA01 ,  4D037CA03 ,  4D037CA04 ,  4D037CA09 ,  4D037CA11 ,  4D038AA04 ,  4D038AB26 ,  4D038BA04 ,  4D038BB06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB09 ,  4D038BB10 ,  4D038BB15 ,  4D038BB16 ,  4D050AA05 ,  4D050AB07 ,  4D050AB33 ,  4D050BA14 ,  4D050BC02 ,  4D050BC04 ,  4D050BC06 ,  4D050BD06 ,  4D050CA06 ,  4D050CA07 ,  4D050CA09 ,  4D050CA10
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特許第2988290号公報
  • 水の溶存酸素除去装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-042032   出願人：株式会社トーケミ
  • 溶存酸素除去装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-283688   出願人：オルガノ株式会社
審査官引用 (2件)

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