特許
J-GLOBAL ID：200903001683680852

ビーム加工装置及びタッチパネル基板の製造方法

発明者：
小林 丈司

小林 丈司 について

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宮本 和徳

宮本 和徳 について

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川上 康弘

川上 康弘 について


出願人/特許権者：
リコーマイクロエレクトロニクス株式会社

リコーマイクロエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-077153
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273582
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：
【要約】【課題】 パルスレーザ光を用いて加工する場合に、ユーザの希望に応じて加工速度を変更したときでも過不足なく均一な加工が可能となるビーム加工装置及びタッチパネル基板の製造方法を提供する。【解決手段】 パルスレーザ光を繰り返し出射するYAGレーザ装置1と、パルスレーザ光を加工対象物に案内して照射する光ファイバ201等からなるビーム照射手段と、加工対象物を移動させるXYテーブル5と、加工制御データに基づいてYAGレーザ装置1及びXYテーブル5を制御する制御システム6とを備えたビーム加工装置において、ユーザが加工速度のデータを入力するための加工速度入力手段と、入力された加工速度のデータに基づいて、加工対象物の移動の条件とパルスレーザ光の照射条件とを設定する加工条件設定手段を設ける。上記加工速度入力手段及び加工条件設定手段は、制御システム6に設ける。
請求項（抜粋）：
パルス状のエネルギービームを繰り返し出射するビーム源と、該ビーム源から出射されたエネルギービームを加工対象物に案内して照射するビーム照射手段と、該加工対象物と該加工対象物に対する該エネルギービームの照射ポイントとを相対移動させる相対移動手段と、加工制御データに基づいて該ビーム源及び該相対移動手段を制御する制御手段とを備えたビーム加工装置において、ユーザが加工速度のデータを入力するための加工速度入力手段と、該加工速度入力手段で入力された加工速度のデータに基づいて、該加工対象物と該照射ポイントとの間の相対移動の条件と該エネルギービームの照射条件とを設定する加工条件設定手段を設けたことを特徴とするビーム加工装置。
IPC (4件)：
B23K 26/00 ,  G06F 3/033 360 ,  H01S 3/11 ,  B23K101:36
FI (5件)：
B23K 26/00 D ,  B23K 26/00 M ,  G06F 3/033 360 Z ,  H01S 3/11 ,  B23K101:36
Fターム (19件)：
4E068AD00 ,  4E068CA03 ,  4E068CB02 ,  4E068CC06 ,  4E068CE04 ,  4E068CE08 ,  4E068DA09 ,  5B087AA00 ,  5B087CC13 ,  5B087CC16 ,  5F072AB02 ,  5F072AB15 ,  5F072AB20 ,  5F072HH05 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ20 ,  5F072MM04 ,  5F072SS06 ,  5F072YY06
引用特許：
審査官引用 (10件)
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