特許
J-GLOBAL ID:200903001711451635

薄膜と回折光学素子とそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-221990
公開番号(公開出願番号):特開2006-039392
出願日: 2004年07月29日
公開日(公表日): 2006年02月09日
要約:
【課題】 実用的な屈折率変調型回折光学素子をより簡便にかつ低コストで提供する。【解決手段】 回折光学素子の製造方法において、主要成分として炭素を含んでいて30より大きく200より小さいヌープ硬度と1.54未満の屈折率とを有する薄膜(1)を準備し、薄膜に回折作用を生じさせるための屈折率変調構造を形成するように、薄膜の複数領域(2a)にエネルギビーム(4)を照射してそれらの領域の屈折率を高めることを特徴としている。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
主要成分として炭素を含んでいて30より大きく200より小さいヌープ硬度と1.54未満の屈折率とを有する薄膜を準備し、 前記薄膜に回折作用を生じさせるための屈折率変調構造を形成するように、前記薄膜の複数領域にエネルギビームを照射してそれらの領域の屈折率を高めることを特徴とする回折光学素子の製造方法。
IPC (1件):
G02B 5/18
FI (1件):
G02B5/18
Fターム (4件):
2H049AA02 ,  2H049AA33 ,  2H049AA44 ,  2H049AA63
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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