特許

J-GLOBAL ID：200903001723323012

基材除去方法

発明者： 若山 博昭 ,  稲垣 伸二 ,  福嶋 喜章
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 高橋 祥泰 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-028987
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226624
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 被覆物の品質を維持しつつ,容易に基材除去を行うことができる基材除去方法を提供すること。【解決手段】 基材の表面に被覆物を被覆させてなるコート体を作製した後,該コート体から上記基材の少なくとも一部を除去する方法であって,コート体を活性酸素雰囲気中に保持して,基材と酸素を反応させることにより,基材の少なくとも一部を除去する。

請求項（抜粋）：

基材の表面に被覆物を被覆させてなるコート体を作製した後,該コート体から上記基材の少なくとも一部を除去する方法であって,上記コート体を活性酸素雰囲気中に保持して,上記基材と酸素を反応させることにより,該基材の少なくとも一部を除去することを特徴とする基材除去方法。

IPC (6件)：

C22C 1/08 ,  C01B 13/14 ,  C01G 23/053 ,  C01B 39/00 ,  C01F 7/02 ,  C23C 16/56

FI (6件)：

C22C 1/08 D ,  C01B 13/14 Z ,  C01G 23/053 ,  C01B 39/00 ,  C01F 7/02 D ,  C23C 16/56

Fターム (44件)：

4G042DB12 ,  4G042DB26 ,  4G042DB31 ,  4G042DD06 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD05 ,  4G047KA03 ,  4G047KD02 ,  4G047LB10 ,  4G073AA03 ,  4G073BA20 ,  4G073BA63 ,  4G073BC10 ,  4G073BD11 ,  4G073FA11 ,  4G073FC18 ,  4G073FC25 ,  4G073FC26 ,  4G073FD12 ,  4G073FD23 ,  4G073UA02 ,  4G073UB39 ,  4G076AA02 ,  4G076AB12 ,  4G076BA24 ,  4G076BC02 ,  4G076BD02 ,  4G076BD04 ,  4G076CA12 ,  4G076DA01 ,  4G076FA01 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030BA46 ,  4K030CA05 ,  4K030CA08 ,  4K030DA08 ,  4K030FA00 ,  4K030FA17

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭59-044101
  
• 光触媒膜の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-224387   出願人：株式会社ブリヂストン