特許
J-GLOBAL ID：200903001813828806

除染廃液の処理方法および処理装置

発明者：
遠田 正見

遠田 正見 について

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矢板 由美

矢板 由美 について

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佐藤 龍明

佐藤 龍明 について

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酒井 仁志

酒井 仁志 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-131674
公開番号（公開出願番号）：特開2005-315641
出願日： 2004年04月27日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】原子力施設の配管・設備等に付着した放射性物質を有機酸含有除染液で除染した際に発生する有機酸含有除染廃液の処理において、従来に比べて二次廃棄物の発生量を低減することのできる除染廃液の処理方法および処理装置を提供する。【解決手段】除染廃液中の有機酸を炭酸ガスと水に分解した後、加熱・乾燥して金属酸化物の粉体を生成し、その粉体をセメント固化する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機酸を含有し、金属が溶解した除染廃液の処理方法であって、 除染廃液中の前記有機酸を炭酸ガスと水とに分解する分解工程と、 前記分解工程後の除染廃液を加熱・乾燥して前記金属を金属酸化物の粉体とする乾燥工程と、 前記粉体をセメント固化する固化工程と を有することを特徴とする除染廃液の処理方法。
IPC (6件)：
G21F9/06 ,  C02F1/08 ,  C02F1/72 ,  C02F1/78 ,  G21F9/08 ,  G21F9/30
FI (6件)：
G21F9/06 551A ,  C02F1/08 ,  C02F1/72 Z ,  C02F1/78 ,  G21F9/08 511F ,  G21F9/30 515C
Fターム (9件)：
4D034AA27 ,  4D034BA01 ,  4D034CA17 ,  4D050AA13 ,  4D050AB13 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BD06 ,  4D050CA02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (9件)
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