特許
J-GLOBAL ID：200903001826960967

現像処理方法及び現像処理装置

発明者：
稲田 博一

稲田 博一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-074906
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260707
出願日： 1998年03月09日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 現像液の濃度の均一性を維持すると共に現像処理からリンス処理への移行を緩やにおこなえる現像処理方法を提供する。【解決手段】 現像処理の際には,ウェハWの表面に純水のみを供給した後に,現像液と純水の混合液74を徐々に現像液の混合比率を高くしながら供給して,ウェハWの表面に供給する処理液を純水から現像液に置換する。リンス処理の際には,現像液と純水の混合液74を徐々に現像液の混合比率を低くしながら供給して,ウェハWの表面に供給する処理液を現像液から純水に置換する。ウェハWの表面に現像液を供給する処理液供給ノズル33は,純水及び現像液と純水の混合液74を供給する機能を有する。
請求項（抜粋）：
基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う方法において,前記基板の表面に純水を供給する第1の工程と,前記基板の表面に現像液と純水の混合液を,徐々に現像液の混合比率を高くしながら供給する第2の工程と,前記基板の表面に現像液のみを供給する第3の工程と,前記基板の表面に現像液と純水の混合液を,徐々に現像液の混合比率を低くしながら供給する第4の工程と,前記基板の表面に純水のみを供給する第5の工程とを有することを特徴とする,現像処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/30 501
FI (4件)：
H01L 21/30 569 F ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 E
引用特許：
審査官引用 (2件)

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