特許
J-GLOBAL ID：200903001879923559

反射防止膜及びその製造方法及び光学素子及び光学システム

発明者：
長塚 淳

長塚 淳 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-132331
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319209
出願日： 1998年05月14日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 層の総数が少なく、且つ高性能(広い反射防止波長帯域、低い反射率、広い角度特性)な反射防止膜、特に紫外域で高性能で、光損失が少なく、且つレーザ光耐久性が高い反射防止膜、及びその製造方法、及び本反射防止膜を用いた光学素子、及び本光学素子を用いた光学システムを提供することである。【解決手段】本発明は以上の課題を解決するために、湿式プロセスによる膜と、乾式プロセスによる膜との両方を組み合わせて用いることを試みた。通常の乾式プロセスによる膜では得られない湿式プロセスによる膜の低屈折率性と乾式プロセスによる膜の高屈折率性とによって、屈折率差を大きくできることと、最低屈折率の値を極度に低い値にすることができることを利用した。この結果全乾式プロセスの反射防止膜と較べて優れた性能の、且つ同じ性能に対して層数が少ない反射防止膜の製造が可能となった。
請求項（抜粋）：
基板上に反射防止膜を製造する方法であって、湿式プロセスまたは乾式プロセスを用いて基板上に第一材料の第一反射防止層を形成する段階と、湿式プロセスを用いて第一反射防止層を覆う第二材料の第二反射防止層を形成する段階とを有することを特徴とする反射防止膜の製造方法。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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