特許
J-GLOBAL ID：200903001885022504

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者：
高島 正伸

高島 正伸 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-373567
公開番号（公開出願番号）：特開2007-178459
出願日： 2005年12月26日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】感光層の感度低下を効果的に抑制でき、高感度な感光層が得られ、かつ基体に対して凹凸追従性に優れ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜50mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜50mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/20 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/00
FI (8件)：
G03F7/004 503Z ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/11 503 ,  G03F7/26 501 ,  G03F7/20 501 ,  H05K3/28 C ,  H05K3/00 G ,  H05K3/00 F
Fターム (43件)：
2H025AA01 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA23 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096LA16 ,  2H097AA03 ,  2H097AA11 ,  2H097AB05 ,  2H097BB03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097DB12 ,  2H097FA06 ,  2H097HA00 ,  2H097LA09 ,  2H097LA11 ,  5E314AA27 ,  5E314CC15 ,  5E314DD07 ,  5E314GG26
引用特許：
出願人引用 (4件)
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