特許

J-GLOBAL ID：200903008273602093

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法

発明者： 大橋 武志 ,  磯 純一 ,  市川 立也
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-062565
公開番号（公開出願番号）：特開2002-268211
出願日： 2001年03月06日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、高解像であって、レジストパターンの側面ギザ性、解像度、密着性、レジストパターンの平坦性、耐めっき性及びイメージング性が極めて優れ、マウスバイトの数が少ない感光性エレメントを提供する。【解決手段】 本発明の感光性エレメントは、二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルムの前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の層を塗布、乾燥してなる感光性エレメントであって、前記感光性樹脂組成物が、(A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性不飽和化合物、(C)光重合開始剤、及び、(D)ヒドロキノン、カテコールやレゾルシノールなどのベンゼン環に2個以上のOH基が置換したポリフェノール類、とを含有してなる感光性樹脂組成物であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルムの前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の層を塗布、乾燥してなる感光性エレメントであって、前記感光性樹脂組成物が、(A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性不飽和化合物(C)光重合開始剤、及び(D)一般式(I)【化1】(式中、Zは、ハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、アミノ基、炭素数1〜20のアルキル基で置換されていてもよいアリール基、炭素数1〜20のアルキル基で置換されているモノアルキルアミノ基もしくはジアルキルアミノ基、メルカプト基、炭素数1〜10のアルキルメルカプト基、アルキル基の炭素数が1〜10のカルボキシアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環からなる基を示し、m及びnは、mが2〜6の整数であり、nが0または1〜4の整数であって、m+nが2〜6となるように選ばれる整数であり、nが2以上の整数のとき、2以上のZは各々同一でも相違してもよい)で示される化合物を含有してなる感光性エレメント。

IPC (12件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/004 501 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/50 ,  C08F291/00 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18

FI (13件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/004 501 ,  C08F 2/44 C ,  C08F 2/44 B ,  C08F 2/50 ,  C08F291/00 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 ,  H05K 3/00 F ,  H05K 3/06 J ,  H05K 3/18 D

Fターム (82件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC31 ,  2H025BC43 ,  2H025BC51 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025DA19 ,  2H025DA20 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA40 ,  2H025FA43 ,  4J011PA33 ,  4J011PA65 ,  4J011PA69 ,  4J011PA85 ,  4J011PA86 ,  4J011PA88 ,  4J011PA96 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J011QA12 ,  4J011QA13 ,  4J011QB15 ,  4J011QB16 ,  4J011SA21 ,  4J011SA31 ,  4J011SA41 ,  4J011SA51 ,  4J011SA63 ,  4J011UA06 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J026AA16 ,  4J026AA45 ,  4J026AB01 ,  4J026AB07 ,  4J026AB11 ,  4J026AB28 ,  4J026BA28 ,  4J026BA50 ,  4J026DB06 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  5E339AB02 ,  5E339AD03 ,  5E339BC02 ,  5E339BD11 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE11 ,  5E339CE16 ,  5E339CF01 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E339DD04 ,  5E339GG10 ,  5E343AA02 ,  5E343AA15 ,  5E343AA17 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB44 ,  5E343BB54 ,  5E343CC62 ,  5E343DD33 ,  5E343ER16 ,  5E343ER18 ,  5E343GG08

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-334867   出願人：日立化成工業株式会社
• 感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法及びリードフレームの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-287647   出願人：日立化成工業株式会社
• 着色画像形成材料及び転写画像形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078673   出願人：三菱化学株式会社
• 感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-181489   出願人：日立化成工業株式会社
• 極細線用フォトレジスト用ポリエステルフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-024197   出願人：東洋紡績株式会社