特許

J-GLOBAL ID：200903001890476742

基板洗浄乾燥装置および方法

発明者： 金 元 培 ,  韓 在 善 ,  ▲バイ▼ 正 龍 ,  趙 重 根
出願人/特許権者： セメス株式会社
代理人 (1件)： 萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-060284
公開番号（公開出願番号）：特開2006-245381
出願日： 2005年03月04日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：

【課題】 基板洗浄乾燥装置および方法を提供する。【解決手段】 本発明の装置は、互いに異なる流体が各々噴射される第1噴射口と、第2噴射口とを具備し、この噴射口がノズルの移動方向、またはその移動方向と隣接した線上に一列に配置された噴射部を有する。噴射部は移動部によって基板の中心からエッジに直線移動され、第1噴射口と第2噴射口はその移動線上に一列に配置される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を洗浄および乾燥するための装置において、 被処理面が上に向くように基板を維持し、その基板を回転させるためのスピンヘッドと、 前記スピンヘッドに置かれた基板の被処理面に洗浄と乾燥のための流体を噴射するためのノズルを有する噴射部と、 前記噴射部のノズルを基板の中心からエッジに移動させるための移動部とを含み、 前記ノズルは互いに異なる流体が各々噴射される第1噴射口と第2噴射口とを具備し、この噴射口は前記ノズルの移動方向またはその移動方向と隣接した線上に一列に配置されることを特徴とする基板洗浄乾燥装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (4件)：

H01L21/304 651B ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 651L

引用特許：

審査官引用 (3件)

• スピン洗浄装置及びスピン洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-339065   出願人：大見忠弘, 株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所
• 処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-154435   出願人：東京エレクトロン株式会社
• ウェーハ乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-332976   出願人：三星電子株式会社