特許

J-GLOBAL ID：200903055737348878

スピン洗浄装置及びスピン洗浄方法

発明者： 大見 忠弘 ,  新田 雄久 ,  中森 光則
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-339065
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260779
出願日： 1998年11月30日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 ノズルを走査する場合に基板全域が常に濡れているために、新たな洗浄液供給系を必要とせず、複雑な可動系も必要としないスピン洗浄装置及びスピン洗浄方法を提供すること。【構成】 洗浄槽に洗浄すべき基板1を回転可能に保持する手段と、洗浄液を供給するノズル4を有して、洗浄液に超音波などの振動を与える振動子9が設けられているノズル4を持つスピン洗浄装置において、回転軸2からのばされたバー3と、バー3を法線とする直線に複数のノズル4が並んでいる。

請求項（抜粋）：

洗浄槽内に洗浄すべき基板を回転可能に保持する手段と、洗浄液を供給するノズルを有して、該洗浄液に超音波などの振動を与える振動子が設けられているノズルを持つスピン洗浄装置において、回転軸からのばされたバーと、該バーを法線とする直線ないし円弧上に複数のノズルが並んでいることを特徴とするスピン洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12

FI (4件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 643 D ,  B08B 3/02 D ,  B08B 3/12 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 超音波洗浄方法とその洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-129986   出願人：株式会社日立製作所
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-085906   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-088781   出願人：大日本スクリーン製造株式会社