ウェーハ乾燥装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：八田幹雄 , 野上敦 , 奈良泰男 , 齋藤悦子 , 宇谷勝幸 , 藤井敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-332976
公開番号（公開出願番号）：特開2004-128495
出願日： 2003年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】水斑点の形成を抑制することができるウェーハを乾燥させる装置を提供する。【解決手段】遠心力及びイソプロピルアルコールなどの有機溶剤を用いてウェーハを乾燥させる装置である。前記装置はウェーハの自然乾燥を防止するために脱イオン水を供給する脱イオン水供給部と、ウェーハの乾燥効率を向上させるための有機溶剤を供給する有機溶剤供給部とを含む。脱イオン水供給部はウェーハの中心部から端部に向かって延伸されたパイプ形状を持ち、多数の脱イオン水供給ノズルを有する。脱イオン水供給部はウェーハの中心部から端部に向かって移動し、脱イオン水を供給して、有機溶剤供給部は脱イオン水供給部の移動通路に沿って移動しながら、有機溶剤を供給する。従って、ウェーハの乾燥効率が向上でき、水斑点の形成が抑制される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ウェーハを回転させるための回転チャックと、前記ウェーハと隣接して移動できるように配置し、前記ウェーハの中心部と端部の間で半径方向に向かって移動し、前記ウェーハ上に脱イオン水を供給するための脱イオン水供給部と、前記ウェーハと隣接して配置され、前記ウェーハ上へ供給された脱イオン水を除去するため前記ウェーハ上へ有機溶剤を供給するための有機溶剤供給部を含み、前記有機溶剤供給部は、前記ウェーハの中心部と端部の間で半径方向に向かって移動できるように配置される少なくとも一つの有機溶剤供給ノズルを有する第1有機溶剤供給部と、前記ウェーハの中心部と隣接する固定された位置に配置された少なくとも一つの有機溶剤供給ノズルを有する第2有機溶剤供給部を含むことを特徴とするウェーハ乾燥装置。

IPC (1件)：

H01L21/304

FI (3件)：

H01L21/304 651B , H01L21/304 651H , H01L21/304 651L

引用特許：

出願人引用 (3件)

米国特許第6、027、574号明細書
米国特許第6、029、371号明細書
米国特許第5、829、156号明細書

審査官引用 (2件)

洗浄方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-148606 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
洗浄装置及び洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-335990 出願人：ソニー株式会社

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