特許
J-GLOBAL ID:200903001893371941

疎水性金属酸化物ナノ粒子の製造プロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-100685
公開番号(公開出願番号):特開2005-298818
出願日: 2005年03月31日
公開日(公表日): 2005年10月27日
要約:
【課題】感光体の電荷輸送層の疎水性ポリマバインダ中に安定に分散される金属酸化物ナノ粒子を得る。【解決手段】金属酸化物ナノ粒子と、溶媒と、表面処理剤とを混合する工程を含む金属酸化物ナノ粒子の処理プロセスについて記述する。表面処理された金属酸化物ナノ粒子は、表面に表面処理剤が結合することにより疎水性となり、好ましくはナノ粒子の表面上の有機部分とバインダポリマの芳香族成分との間でπ-π相互作用が形成されることにより、フォトレセプタの電荷輸送層の疎水性芳香族ポリマバインダ中に分散される。このとき、ナノ粒子がポリマ中に安定に分散され、大きなサイズの凝集体は実質的に存在しない。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属酸化物ナノ粒子と、溶媒と、表面処理剤とを混合する工程を含む、表面処理された金属酸化物ナノ粒子の製造プロセスであって、 前記表面処理剤が、化学式(I)または化学式(III)により表される構造を有し、 R-Z(X)nY3-n (I)
IPC (7件):
C09C3/00 ,  C01B13/14 ,  C08K9/04 ,  C08L101/00 ,  C09C3/12 ,  C09D17/00 ,  G03G5/05
FI (7件):
C09C3/00 ,  C01B13/14 A ,  C08K9/04 ,  C08L101/00 ,  C09C3/12 ,  C09D17/00 ,  G03G5/05 104
Fターム (40件):
2H068AA14 ,  2H068CA33 ,  4G042DA01 ,  4G042DB28 ,  4G042DC03 ,  4G042DD04 ,  4G042DE03 ,  4G042DE12 ,  4J002CF001 ,  4J002CG001 ,  4J002CG011 ,  4J002CH001 ,  4J002CL001 ,  4J002CM041 ,  4J002CN031 ,  4J002DE076 ,  4J002DE096 ,  4J002DE106 ,  4J002DE116 ,  4J002DE136 ,  4J002DE146 ,  4J002DJ016 ,  4J002FB086 ,  4J002FB096 ,  4J002FB166 ,  4J002GQ00 ,  4J002GS00 ,  4J037AA08 ,  4J037AA15 ,  4J037AA18 ,  4J037AA22 ,  4J037AA25 ,  4J037CB01 ,  4J037CB23 ,  4J037CC28 ,  4J037DD15 ,  4J037EE02 ,  4J037EE28 ,  4J037EE43 ,  4J037FF18
引用特許:
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (6件)
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