特許
J-GLOBAL ID:200903001922323048
マイクロ化学装置の洗浄方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-098911
公開番号(公開出願番号):特開2006-272268
出願日: 2005年03月30日
公開日(公表日): 2006年10月12日
要約:
【課題】単位操作又は反応操作を行う運転中又は停止中において、マイクロ流路内の汚損を効率よく除去する。【解決手段】2種類の原料流体A、Bを、それぞれの流体供給路34A、34Bを通して、等価直径が1mm以下である1本のマイクロ流路32に合流させて反応操作又は単位操作を行うマイクロ化学装置30の洗浄方法において、洗浄流体をマイクロ流路32に流通させ、マイクロ流路32内において層流渦を発生させてマイクロ流路32を洗浄する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
複数種類の原料流体をそれぞれの流体供給路を通して、等価直径が1mm以下である1本のマイクロ流路に合流させて反応操作又は単位操作を行うマイクロ化学装置の洗浄方法において、
洗浄流体を前記マイクロ流路に流通させ、前記マイクロ流路内において層流渦を発生させて前記マイクロ流路を洗浄することを特徴とするマイクロ化学装置の洗浄方法。
IPC (3件):
B01J 19/00
, B08B 3/10
, B08B 3/12
FI (3件):
B01J19/00 321
, B08B3/10 Z
, B08B3/12 Z
Fターム (32件):
3B201AA12
, 3B201AA47
, 3B201BB38
, 3B201BB62
, 3B201BB82
, 3B201BB83
, 3B201BB87
, 3B201BB90
, 3B201BB92
, 3B201BB94
, 3B201BB95
, 3B201CC21
, 4G075AA02
, 4G075AA39
, 4G075AA57
, 4G075BA06
, 4G075BA08
, 4G075BA10
, 4G075BB01
, 4G075BB02
, 4G075BB03
, 4G075BB04
, 4G075BB05
, 4G075BB07
, 4G075BB10
, 4G075BD09
, 4G075BD16
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4G075CA05
, 4G075CA23
, 4G075FA01
引用特許:
前のページに戻る