特許
J-GLOBAL ID：200903001926317859
エアブリッジ構造を有する2次元フォトニック結晶及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小林 良平
, 竹内 尚恒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-307657
公開番号（公開出願番号）：特開2005-077711
出願日： 2003年08月29日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】 高い機械的強度を有し、且つ共振器の性能が高い2次元フォトニック結晶を提供する。 【解決手段】 本発明の2次元フォトニック結晶、本体層11の下部に、SiO2基板層12及びSi基板層13から成る基板を有する。本体層11に周期的に空孔15が配置されることにより2次元フォトニック結晶が形成される。また、この空孔15の周期的配列の一部が欠損した点状欠陥16を有する。点状欠陥16は特定の波長の光を共振する共振器として機能する。点状欠陥16に面してSiO2基板層12の所定の範囲に空間17を設ける。この構成では、空間17を設けた範囲以外では、本体層11が基板に支えられるため、2次元フォトニック結晶の機械的強度が高い。また、点状欠陥16の下部には空間17が存在するため、本体層11と空気の屈折率の差により、点状欠陥16において光が閉じこめられ易いこと等により、点状欠陥16は高い性能を有する共振器となる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
a)スラブ状の本体と、
b)前記本体の下面に設けた基板と、
c)前記本体に所定の周期で格子状に配置された複数の、本体とは屈折率の異なる領域と、
d)前記異屈折率領域の欠陥を点状に設けて成る点状欠陥と、
e)前記点状欠陥に面して基板の所定の範囲に設けた空間と、
を備えることを特徴とするエアブリッジ構造を有する2次元フォトニック結晶。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B6/12 Z
, G02B6/12 N
, G02B6/12 M
2H047LA18
, 2H047PA24
, 2H047QA02
, 2H047QA04
