特許
J-GLOBAL ID：200903001932424675
フォトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190416
公開番号（公開出願番号）：特開平7-043889
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 高い露光エネルギーを必要とする露光を行っても、遮光部に変形が生じることがなく、高精度なパターン転写が行えるフォトマスク及びその製造方法を提供する。【構成】 ガラス基板1上に、ガラス基板1側から順に、光反射膜2又は光吸収膜、及び遮光膜3からなる遮光部5を形成する。または、ガラス基板1の遮光部5形成面の裏面の遮光部5形成領域と同一領域に、遮光部5と同一パターンを備えた光反射膜8又は光吸収膜10を形成する。または、ガラス基板1上に形成した遮光部5に、解像限界以下の幅を有する細隙11を形成する。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、該透明基板側から順に、光反射膜及び遮光膜からなる遮光部を形成したことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 561
