特許

J-GLOBAL ID：200903002021429820

ステージ検査装置及びその方法

発明者： 吉田 実 ,  岡 健次 ,  前田 俊二 ,  窪田 仁志 ,  中山 保彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-326849
公開番号（公開出願番号）：特開平8-321461
出願日： 1995年12月15日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【課題】走行時のステージの変動量を、高分解能で、かつ高精度に検出し、変動位置を特定することができるパターン検査装置及びその方法を提供することにある。【解決手段】ステージ1の移動量を位置検出用スケール4で検出し、この検出信号13と同期して、試料3上に設けたステージの位置精度測定用ターゲットを一次元の検出器6で検出し、この画像信号を記憶回路10に順次記憶して二次元の画像に展開し、この画像からターゲットの変動量を求め、ステージ1の精度と速度むらを検出する。

請求項（抜粋）：

駆動手段を備えた移動可能なステージ上に設けた被検査パターンと、該被検査パターンの像を結像する結像光学系手段と、該結像光学系手段で結像された前期比検査パターンの像を検出する像検出手段と、該像検出手段で検出した前期被検査パターンの像に基づいて前記ステージの移動時の水平真直度とヨーイングおよびまたは垂直真直度とピッチングを算出する算出手段とを備えたことを特徴とするステージ検査装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G05D 3/12 ,  H01L 21/68 ,  B23Q 1/25

FI (9件)：

H01L 21/30 525 W ,  G01B 11/00 C ,  G01B 11/00 F ,  G03F 7/20 521 ,  G05D 3/12 K ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 525 X ,  B23Q 1/18 Z

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平4-273246
  
• XYステージの制御方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-117871   出願人：ウシオ電機株式会社
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-236938   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭60-010623
  

審査官引用 (2件)

• 特開平4-273246
  
• XYステージの制御方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-117871   出願人：ウシオ電機株式会社