特許

J-GLOBAL ID：200903011124028458

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤の中間体

発明者： 武元 一樹 ,  吉田 勲 ,  渡部 昭雄 ,  佐藤 泰輔
出願人/特許権者： 住友化学株式会社 ,  東ソ-・エフテック株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-235108
公開番号（公開出願番号）：特開2008-094835
出願日： 2007年09月11日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：

【課題】酸発生剤用の塩として有用なトリフェニルスルホニウム 1-アダマンタンメトキシカルボニルジフルオロメタンスルホナート塩等の中間体であり、製造にあたり設備を腐食させることが少なく簡便に製造することができる化合物およびその製造方法を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式(I)中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、Rは炭素数2〜30の置換されていてもよい炭化水素基を表し、A+はアンモニウムイオンを表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で示されることを特徴とする塩。

IPC (4件)：

C07C 309/17 ,  C07C 309/84 ,  C07C 303/02 ,  C07C 303/22

FI (4件)：

C07C309/17 ,  C07C309/84 ,  C07C303/02 ,  C07C303/22

Fターム (8件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB84 ,  4H006AC48 ,  4H006AC61 ,  4H006BA51 ,  4H006BA92 ,  4H006BE60

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039501   出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開昭52-097909
  
• 過フッ素化多官能性アニオンを有する光酸発生剤
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-532863   出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
• 新規光酸発生剤を含有するレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-144955   出願人：信越化学工業株式会社
• 新規スルホン酸塩、スルホン酸オニウム塩及びスルホン酸誘導体とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-145730   出願人：セントラル硝子株式会社

引用文献：

審査官引用 (10件)

• Journal of Fluorine Chemistry, 1994, 69, 89-95
• Journal fuer Praktische Chemie, 1991, 333,3, p.509-512
• Izvestiya Akademii Nauk SSSR, Seriya Khimicheskaya, 1968, 7, p.1565-1570
• Izvestiya Akademii Nauk SSSR. Seriya Khimicheskaya, 1967, 8, p.1754-8
• Journal of Fluorine Chemistry, 2004, 125, 459-469
• Journal of Fluorine Chemistry, 2003, 121, 147-152
• J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS. 1, 1994, 6, p.725-730
• Huaxue Xuebao, 1984, 42(6), 541-548
• 化学大辞典1, 1960, p.534
• Izvestiya Akademii Nauk SSSR, Seriya Khimicheskaya, 1967, 6, p.1289-94