特許
J-GLOBAL ID：200903077304345746

化学増幅型レジスト組成物

発明者：
山口 訓史

山口 訓史 について

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高田 佳幸

高田 佳幸 について

, 
荒木 香

荒木 香 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 中山 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-074369
公開番号（公開出願番号）：特開2008-233613
出願日： 2007年03月22日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：
【課題】高い解像度を示し良好なラインエッジラフネスを与える化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)(R21:炭素数1〜20の置換されていてもよい炭化水素基、あるいは炭素数3〜30の置換されていてもよい環式炭化水素基(含まれる炭素原子は、任意に、カルボニル基、酸素原子に置換されていてもよい))(Q1、Q2:フッ素原子または炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基、A+:有機対カチオン)で示されるオニウム塩と、式(II)(A+:式(I)のA+と同じ意味、E-:有機対アニオン)で示されるスルホニウム塩とを含有する酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶または難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (12件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF03 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AB80
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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