特許
J-GLOBAL ID：200903002061164705
長寿命光学部品を有する高出力遠紫外線レーザ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 今城 俊夫
, 西島 孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-504358
公開番号（公開出願番号）：特表2005-524998
出願日： 2003年04月23日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
本発明は、高繰返し率高出力出力ビーム(38)を生成するモジュール式高繰返し率紫外線ガス放電レーザシステム(図1B)のための長寿命光学部品を提供する。本発明は、試作レーザシステムの出力ビーム(14C)の高パルス強度部分(10)(26)に位置するCaF2光学部品(4260)(422)(424)(426)上での、本出願人が発見した表面損傷の問題に対する種々の解決策を含む。本実施形態は、何十億の出力レーザパルス(38)のビーム伝達のビーム照準制御(40A)(40B)(6)を有する封入部(4)及びパージ処理ビーム経路(14C)を含む。本明細書で説明する光学部品及びモジュールは、何十億ものパルス(14A)に対して、200nmを下回る波長、1.75×106ワット/cm2を上回る平均出力パルス強度、及び3.5×106ワット/cm2を上回るピーク強度をもつ紫外線レーザ出力パルスを制御できるが、従来技術による構成部品及びモジュールでは、このパルス強度ではわずか数分後に故障してしまう。
請求項（抜粋）：
製造ラインマシンのためのモジュール式高フルエンス高繰返し率紫外線レーザシステムであって、
A)1)a)第1のレーザガスと、
b)放電領域を形成する、細長い間隔をあけて設けられた第1の電極対と、
を含む第1の放電室、
2)少なくとも2,000パルス/秒の範囲の繰返し率で作動する際に、各パルスの後で、放電によって生成された実質的に全てのイオンを、次のパルスの前に前記第1の放電領域から除去するために、前記第1の放電領域において前記第1のレーザガスの十分なガス速度を生成するためのガス循環手段、
3)前記第1のレーザガスからレーザガス温度を所望の範囲内に維持するために熱エネルギーを除去することができる熱交換器システム、
4)前記放電領域の直下流の位置で10mJを上回るパルスエネルギー及び1×10-6ワット/cm2を上回る平均パルス強度を生成するのに十分な電気パルスを、前記第1の電極対に供給するパルス出力システム、を備える200nm未満の波長で紫外線レーザ光を生成するためのレーザ源と、
B)パルスエネルギー密度を25×10-6J/cm3未満に低減するための少なくとも1つの結晶フッ素光学部品を有するパルスエネルギー密度低減光学部品と、
を備えることを特徴とするシステム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5F071AA06
, 5F071DD04
, 5F071DD06
, 5F071DD08
, 5F071FF07
, 5F071FF09
出願人引用 (2件)
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米国特許第5,023,884号公報
-
米国特許第6,466,365号公報
審査官引用 (11件)
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