特許
J-GLOBAL ID：200903088308688674

フッ化物結晶の熱処理方法、光学部品の作製方法及び光学装置

発明者：
千葉 隆夫

千葉 隆夫 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 西山 恵三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-088096
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281492
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：
【要約】【課題】 アニール効果を高める為に、例えばフッ化カルシウムの場合、1000°C以上に昇温させてアニールすると、フッ化物結晶ににごりや着色が生じる。【解決手段】 本発明の特徴は、フッ化物結晶を熱処理する熱処理方法において、フッ化物結晶(100)を収容した熱処理炉(1)内に不活性ガス及び/又はフッ素系ガスをガス供給口(7)から導入し常圧又は加圧された当該ガス雰囲気下で該フッ化物結晶を加熱する。本発明によれば、フッ化物結晶の表面に吸着した酸素や金属不純物による、にごりや着色を防止できる。
請求項（抜粋）：
フッ化物結晶を熱処理する熱処理方法において、フッ化物結晶を収容した熱処理炉内を常圧又は加圧された不活性ガス及び/又はフッ素系ガス雰囲気とし、該雰囲気中で該フッ化物結晶を加熱する工程を含むことを特徴とするフッ化物結晶の熱処理方法。
IPC (6件)：
C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00 ,  G03F 1/14
FI (6件)：
C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  H01S 3/00 Z ,  G03F 1/14 B ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (24件)：
2H095BA02 ,  2H095BA06 ,  2H095BA07 ,  2H097AA11 ,  2H097AB09 ,  2H097CA13 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  4G077AA02 ,  4G077BE02 ,  4G077CD01 ,  4G077CF10 ,  4G077FE02 ,  4G077FE06 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB01 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK30 ,  5F072YY06
引用特許：
審査官引用 (5件)
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