特許
J-GLOBAL ID:200903002104177415
半導体レーザ装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西野 卓嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-343427
公開番号(公開出願番号):特開平5-175598
出願日: 1991年12月25日
公開日(公表日): 1993年07月13日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 高出力及び長寿命の半導体レーザ装置を提供する【構成】 n型GaAs基板上にInGaAs井戸層とAlGaAs障壁層からなる歪量子井戸構造の活性層5を含む半導体層が形成されている。特に、この前記活性層5の不純物濃度は2×1017cm-3以下が望ましい。
請求項(抜粋):
GaAs基板上にInGaAs井戸層とAlGaAs障壁層からなる歪量子井戸構造の活性層を含む半導体層を有することを特徴とする半導体レーザ装置。
引用特許:
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