回転式湿式処理方法および回転式湿式処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉浦正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-130241
公開番号（公開出願番号）：特開平11-319682
出願日： 1998年05月13日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】薬液の使用量および処理装置の占有面積を最小限に抑える。【解決手段】レジストパターンが形成された基板4をカップ内回転テーブル12上に載置する。分離シャッター16を上昇させ、カップ内回転テーブル12および基板4を回転させつつ、循環タンク2内の循環シンナーを薬液吐出部7から吐出する。基板4上の循環シンナーは遠心力により、基板4上を広がり、レジストパターンを除去し、放射状に分散して廃液部13に入り、廃液ライン15を通じて廃棄する。分離シャッター16を下降させ、分離孔13aを閉じ、薬液吐出部7から循環シンナーを吐出し、回収ライン14を通じて循環タンク2に回収される。最後に、未使用シンナーを薬液吐出部7から吐出し、回収ライン14を通じて循環タンク2に回収する。

請求項（抜粋）：

基板に薬液を吐出して湿式処理を行うようにした湿式処理方法において、少なくとも最初に、上記湿式処理に少なくとも一度用いられた第1の薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、少なくとも最後に、上記湿式処理に一度も用いられていない第2の薬液を、上記基板に吐出して湿式処理を行うようにしたことを特徴とする湿式処理方法。

IPC (5件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 , B05D 3/00 , H01L 21/027 , H01L 21/306

FI (6件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 A , B05D 3/00 B , H01L 21/30 564 C , H01L 21/306 A , H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (2件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-195344 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
Crエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-233566 出願人：株式会社日立製作所

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