特許
J-GLOBAL ID：200903002205564789

有機薄膜の層を有する透明導電性基板、その製造方法およびそれを用いた光学的素子

発明者：
中本 憲史

中本 憲史 について

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大芦 竜也

大芦 竜也 について

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山田 茂男

山田 茂男 について


出願人/特許権者：
日本曹達株式会社

日本曹達株式会社 について


代理人 (1件)： 大石 治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-186893
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005241
出願日： 2005年06月27日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】 低電圧で駆動させることができ、かつ長期間に亙って安定な導電特性を維持できる透明導電性基板、及びこの透明導電性基板を用いる有機EL素子等の光学的素子を提供する。【解決手段】 基板と、該基板表面に形成された透明導電膜と、及び該透明導電膜上に、式(1):Rn-Si-X4-n(式中、Rは置換基を有していてもよいC1〜20の炭化水素基等を表し、nは1〜3の整数を表す。)で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜の層を有することを特徴とする透明導電性基板、並びに、互いに対向する2つの電極間に発光層を必須の層として設けた光学的素子において、前記電極の少なくとも一方が、前記透明導電性基板からなることを特徴とする光学的素子。【選択図】 なし。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板表面に形成された透明導電膜と、並びに該透明導電膜上に、式(1):Rn-Si-X4-n(式中、Rは置換基を有していてもよいC1〜20の炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜20のハロゲン化炭化水素基、連結基を含むC1〜20の炭化水素基、または連結基を含むC1〜20のハロゲン化炭化水素基を表し、Xは水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルコキシ基またはアシルオキシ基を表し、nは1〜3の整数を表す。)で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜の層を有することを特徴とする透明導電性基板。
IPC (7件)：
H01B 5/14 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/28 ,  H01B 13/00 ,  B32B 7/02
FI (7件)：
H01B5/14 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z ,  H05B33/10 ,  H05B33/28 ,  H01B13/00 503B ,  B32B7/02 104
Fターム (49件)：
3K007AB06 ,  3K007AB12 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007CB04 ,  3K007DB03 ,  3K007EA02 ,  3K007FA01 ,  4F100AA17C ,  4F100AA21C ,  4F100AA28B ,  4F100AA33B ,  4F100AH06C ,  4F100AH08C ,  4F100AK01C ,  4F100AR00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DD07B ,  4F100GB41 ,  4F100JA11B ,  4F100JG01B ,  4F100JL00 ,  4F100JL08C ,  4F100JM02C ,  4F100JN01B ,  4F100YY00B ,  5G307FA01 ,  5G307FB01 ,  5G307FB02 ,  5G307FC02 ,  5G323BA01 ,  5G323BA02 ,  5G323BA04 ,  5G323BB02 ,  5G323BB03 ,  5G323BB05 ,  5G323BB06 ,  5G323BC01 ,  5G333AA03 ,  5G333AB12 ,  5G333CB15 ,  5G333DA03 ,  5G333DB02 ,  5G333FB02 ,  5G333FB11
引用特許：
出願人引用 (3件)

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