特許

J-GLOBAL ID：200903002319778738

画像露光装置

発明者： 石川 弘美 ,  石井 秀一
出願人/特許権者： 富士フイルムホールディングス株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-176459
公開番号（公開出願番号）：特開2006-350011
出願日： 2005年06月16日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】 マイクロレンズアレイにゴミが付着した場合等でも露光画像の画質が低下することを防止することができる画像露光装置を提供する。【解決手段】 画像露光装置は、照射された光を各々変調する多数の画素部が2次元状に配列されてなる空間光変調素子と、この空間光変調素子に光を照射する光源と、前記空間光変調素子の各画素部からの光をそれぞれ集光するマイクロレンズ55aがアレイ状に配されてなるマイクロレンズアレイ55を含み、前記空間光変調素子により変調された光による像を感光材料上に結像する結像光学系と、を備えている。マイクロレンズアレイ55は、マイクロレンズ55aが形成された面が空間光変調素子側を向くように配置されると共に、マイクロレンズの焦点距離よりも大きい厚さを有する。これにより、マイクロレンズの焦点位置Aはマイクロレンズアレイ55の内部となる。【選択図】 図17

請求項（抜粋）：

照射された光を各々変調する多数の画素部が2次元状に配列されてなる空間光変調素子と、 この空間光変調素子に光を照射する光源と、 前記空間光変調素子の各画素部からの光をそれぞれ集光するマイクロレンズがアレイ状に配されてなるマイクロレンズアレイを含み、前記空間光変調素子により変調された光による像を感光材料上に結像する結像光学系と、 を備えた画像露光装置において、 前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズが形成された面が前記空間光変調素子側を向くように配置されると共に、前記マイクロレンズの焦点距離よりも大きい厚さを有することを特徴とする画像露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  G02B 26/08

FI (4件)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 529 ,  G02B26/08 E

Fターム (14件)：

2H041AA14 ,  2H041AA18 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097BA10 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  5F046BA07 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB18

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 画像焼付装置およびこれを備えた写真処理装置、ならびに画像焼付方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-120068   出願人：ノーリツ鋼機株式会社
• 画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-287631   出願人：富士写真フイルム株式会社