露光方法及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-340640
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162835
出願日： 1997年11月26日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】工程毎ににアライメントマークを更新する必要がなく、簡素な構成でマスクとウエハの位置ずれを検出することのできるアライメント検出系を備えた露光方法及び装置を提供すること。【解決手段】マスク側アライメントマークを露光対象となる画面の外側にオフセットをもたせて配置し、該配置に応じて露光動作の際にも露光光を遮断しない位置にアライメント検出系を配置するとともに、露光光がマスク側アライメントマークを通じてウエハを露光しないように設定可能なアパチャーブレードを備えたこと。

請求項（抜粋）：

第1のパターンとその周辺に配置される第1のアライメントマークを形成し、ウエハと第2のパターンとその周辺に露光光透過部の存在する第2のアライメントマークを形成したマスクを用いて、該第1のアライメントマークと該第2のアライメントマークの位置ずれ量を検出して、位置合わせをして、該第1のパターン上に該第2のパターンを露光転写する露光装置であって、該マスクが位置ずれ計測時の第1のアライメントマーク(画角法線方向の幅Ym)からの第2のアライメントマーク(画角法線方向の幅Ym)までの画角法線方向の距離をYp(画角外側を正)とし、ウエハ上の第1のパターンの中心から第1のアライメントマーク中心までの画角法線方向の距離をX1(画角外側を正)としたときに、マスク上の第2のパターン中心からの第2のアライメントマーク中心までの画角法線方向の距離X2(画角外側を正)がX2=X1+Yp+Yb(Yb>0)になるように、第2のパターンと第2のアライメントマークが配置されており、少なくとも、露光光源と、照明系と、アライメント検出系と、マスクステージと、ウエハステージと、露光画角を規定するアパーチャーブレードとから構成され、第1のパターン中心からアパーチャーブレード先端までの距離Yaが、アパーチャーブレードからマスク面までの距離をL、露光光のアパーチャーブレード先端での発散角をθ、アパーチャーブレードのマスク面上での半影ボケ量をYcとしたときX1+Ym/2+Yc/2-Ltan(θ)<Ya<X2-Ym/2-Yc/2-Ltan(θ)の範囲になるように該アパーチャーブレードを設定し、該アライメント検出系によって位置合わせ状態を検出する位置と、露光を行うときの前記マスクとウエハの相対関係が所定量オフセット(Yb)を持っていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 523 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-108310
特開昭63-104327
ブラインド装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-155161 出願人：日本電信電話株式会社

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