特許

J-GLOBAL ID：200903002403295556

ガス吸収装置

発明者： 田部井 康一 ,  阪野 昇
出願人/特許権者： 田部井 康一 ,  阪野 昇
代理人 (1件)： 大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-167537
公開番号（公開出願番号）：特開2005-000811
出願日： 2003年06月12日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】所要の温度で高濃度のガス吸収液を安定して生成することが可能なものとする。【解決手段】原料液と原料ガスとを攪拌混合する静止型混合器2と、これにより生成するガス吸収液の温度を調整する加温・冷却回路31とを有し、静止型混合器が、円筒状のケーシングの内部の流路中に複数の抵抗体が配設され、該複数の抵抗体が、共に内周面側から中心部に向けて板状に突出され、下流側に傾斜した状態で互いに接触しないように軸線方向に所定の間隔をおき、かつ周方向に順次所定角度ずつずらして設けられたものとする。特に、原料液が導入されてこれを所要の時間滞留させる処理槽3を有し、静止型混合器の上流側で原料ガスを注入しながら静止型混合器と処理槽との間で液を循環させるようにする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

原料液と原料ガスとを攪拌混合する静止型混合器と、これにより生成するガス吸収液の温度を調整する温度調整手段とを有し、 前記静止型混合器は、円筒状のケーシングの内部の流路中に複数の抵抗体が配設され、該複数の抵抗体が、共に内周面側から中心部に向けて板状に突出され、下流側に傾斜した状態で互いに接触しないように軸線方向に所定の間隔をおき、かつ周方向に順次所定角度ずつずらして設けられたことを特徴とするガス吸収装置。

IPC (4件)：

B01F1/00 ,  B01F3/04 ,  B01F15/06 ,  C02F1/78

FI (4件)：

B01F1/00 A ,  B01F3/04 Z ,  B01F15/06 ,  C02F1/78

Fターム (10件)：

4D050AA01 ,  4D050AB31 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4G035AA01 ,  4G035AB27 ,  4G035AE15 ,  4G037CA03 ,  4G037EA01

引用特許：

審査官引用 (5件)

• オゾン水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-368752   出願人：株式会社ササクラ
• 地下水浄化方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-276853   出願人：阪野昇
• 卵殻洗浄殺菌装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-039961   出願人：木戸株式会社
• 廃ガスからの塩酸製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-168309   出願人：東酸化成品販売株式会社, 有限会社ユニテク, オスマン工業株式会社
• 汚泥の破砕方法及び破砕装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-027850   出願人：ユニチカ株式会社