特許
J-GLOBAL ID：200903092448185947

オゾン水製造装置

発明者：
水谷 淳二

水谷 淳二 について

, 
森山 優一

森山 優一 について


出願人/特許権者：
株式会社ササクラ

株式会社ササクラ について


代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-368752
公開番号（公開出願番号）：特開2002-166147
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】複雑乃至大型の装置を必要とすることなく、高濃度のオゾン水を低コストで製造することができる装置を提供する。【解決手段】超純水とオゾンガスとを接触させてオゾン水を製造するための装置であって、超純水を循環経路5に供給するための超純水給水経路3と、超純水を循環経路内で加圧流動させるための加圧装置7と、加圧超純水の圧力を利用してオゾンガスを超純水中に導入するためのエゼクタ11と、超純水とオゾンガスとからなる混合体から気泡を分離するための液体サイクロン方式の気泡分離装置13と、分離された気泡の排出経路21と、オゾン水の取り出し経路25とを備えたことを特徴とするオゾン水製造装置。
請求項（抜粋）：
超純水とオゾン含有ガスとを接触させてオゾン水を製造するための装置であって、超純水を循環経路に供給するための超純水給水経路と、超純水を循環経路内で加圧流動させるための加圧装置と、加圧超純水の圧力を利用してオゾン含有ガスを超純水中に導入するためのエゼクタと、超純水とオゾン含有ガスとからなる混合体から気泡を分離するための液体サイクロンを備えた気泡分離容器と、分離された気泡の排出経路と、オゾン水の取り出し経路とを備えたことを特徴とするオゾン水製造装置。
IPC (6件)：
B01F 1/00 ,  B01D 19/00 102 ,  B01D 35/02 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/78 ,  F04B 43/08
FI (6件)：
B01F 1/00 A ,  B01D 19/00 102 ,  B01F 3/04 F ,  C02F 1/78 ,  F04B 43/08 A ,  B01D 35/02 M
Fターム (22件)：
3H077AA02 ,  3H077BB10 ,  3H077CC03 ,  3H077EE37 ,  4D011AA05 ,  4D011AC01 ,  4D011AC05 ,  4D011AC06 ,  4D011AD03 ,  4D050AA01 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA15 ,  4D064AA03 ,  4D064BB08 ,  4G035AA02 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15 ,  4G035AE17
引用特許：
審査官引用 (8件)
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