特許

J-GLOBAL ID：200903002411724113

光学素子及びその製造方法

発明者： 西 井 準 治 ,  金 高 健 二 ,  川 本 泰 ,  堀 尾 浩 司
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  株式会社モリテックス
代理人 (1件)： 澤野 勝文 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-321501
公開番号（公開出願番号）：特開2003-121619
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：

【要約】【課題】透過する光の波長にかかわらず、光が透過する際にその境界面で生じる反射及び散乱を少なくして、光透過率をより向上させる。【解決手段】パターニング工程(S1)で、透光性基材(2)の表面に塗布形成された感光性レジスト膜(5)に光の波長レベル又はそれ以下の周期の格子パターンを露光し、レジスト膜(5)を現像した後、エッチング工程(S2)で透光性基材(2)の表面にドライエッチングを施して格子パターンに応じた格子溝(9)を形成することにより格子溝(9)間に周期的な突条又は突起(3)を形成し、コーティング工程(S3)で突条又は突起(3)による表面の周期形状に沿って少なくとも屈折率が基材と等しい材料でオーバーコート層(4)を形成するようにした。

請求項（抜粋）：

透光性基材(2)の表面に、光の波長レベル又はそれ以下の周期の微小な突条又は突起(3)が配列形成されると共に、前記突条又は突起(3)による表面の周期形状に沿って前記基材(2)と少なくとも屈折率の等しいオーバーコート層(4)が形成されたことを特徴とする光学素子。

IPC (6件)：

G02B 5/02 ,  C03C 15/00 ,  C03C 17/22 ,  G02B 1/10 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/18

FI (6件)：

G02B 5/02 C ,  C03C 15/00 D ,  C03C 17/22 Z ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/18 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (28件)：

2H042BA04 ,  2H042BA12 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  2H042BA16 ,  2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA34 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA51 ,  2H049AA59 ,  2H049AA60 ,  2H049AA64 ,  2H049AA65 ,  2K009AA01 ,  2K009BB02 ,  2K009DD12 ,  2K009DD17 ,  2K009FF01 ,  4G059AA11 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059AC04 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA16

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-252902
  
• 2方向周期微細格子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-355832   出願人：株式会社島津製作所
• 光学素子の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-301709   出願人：キヤノン株式会社