特許
J-GLOBAL ID：200903002418819020
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-032431
公開番号（公開出願番号）：特開平10-228111
出願日： 1997年02月17日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 特に170nm〜220nmという波長領域の光に対して十分好適であり、かつ光に対して高感度で保存安定性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 特定のエステル基を分子内に有する樹脂と活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
下記一般式〔I〕で表されるエステル基を分子内に有する樹脂と活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基を表す。R2 、R3 は、同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は-A-R4 を表し、R2 とR3 が結合して環を形成してもよい。R4 は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R4 とR2 またはR3 とが結合して環を形成してもよい。Aは酸素原子または硫黄原子を表す。)
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
