特許
J-GLOBAL ID:200903002551462127
蒸留法純水製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-350910
公開番号(公開出願番号):特開2000-167535
出願日: 1998年12月10日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】【課題】 産業廃棄物を極力発生させず、高純度の純水を製造する蒸留法純水製造装置を提供する。【解決手段】 純水製造装置は、給水用真空脱気器21aと、これの下流に設けられた多重効用蒸留器22と、これの下流に設けられた純水用真空脱気器21bとから構成されている。工業用水を供給水として給水用真空脱気器21aに供給し、同真空脱気器21aで供給水中に含まれる炭酸ガスを除去する。給水用真空脱気器21aでは、炭酸ガスを極微量まで除去できるように、次のような操作条件をとる。脱気器給水のpHを酸性側に調整する。脱気器入口で供給水を断熱蒸発させる。供給水を脱気器内の充填物層上へ均一に分散させる。非凝縮性ガスおよび脱気された気体が充填物の間から効率的に除去されるよう、充填層の下から供給水に対して所定比率でストリッピングスチームが流される。
請求項(抜粋):
酸性側で稼働させる給水用真空脱気器と、これの下流に設けられた多重効用蒸留器と、これの下流に設けられた純水用真空脱気器とから構成される純水製造装置。
IPC (7件):
C02F 1/04
, C02F 1/06
, C02F 1/20
, C02F 1/28
, C02F 9/00 502
, C02F 9/00
, C02F 9/00 503
FI (8件):
C02F 1/04 G
, C02F 1/06
, C02F 1/20 A
, C02F 1/28 F
, C02F 9/00 502 B
, C02F 9/00 502 H
, C02F 9/00 502 Z
, C02F 9/00 503 B
Fターム (23件):
4D024AA01
, 4D024AA02
, 4D024AA03
, 4D024AB04
, 4D024AB11
, 4D024AB13
, 4D024BA02
, 4D024BC05
, 4D024CA01
, 4D024DB06
, 4D024DB15
, 4D024DB20
, 4D034BA03
, 4D034CA14
, 4D034DA02
, 4D037AA03
, 4D037AB11
, 4D037BA23
, 4D037BB05
, 4D037BB07
, 4D037CA01
, 4D037CA07
, 4D037CA14
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開平4-126583
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純水製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-124013
出願人:栗田工業株式会社
-
純水の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-026620
出願人:栗田工業株式会社
-
浄水処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-004556
出願人:栗田工業株式会社
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審査官引用 (4件)
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特開平4-126583
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純水製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-124013
出願人:栗田工業株式会社
-
純水の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-026620
出願人:栗田工業株式会社
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浄水処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-004556
出願人:栗田工業株式会社
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