ビーム加工装置およびビーム観察装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (1件)：アイアット国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-247498
公開番号（公開出願番号）：特開2008-068275
出願日： 2006年09月13日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：

【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲で加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。【解決手段】ビーム加工装置1は、ワーク2の加工を行うためのビームを出射するビーム出射源13と、ビーム出射源13が出射されたビームが通過する第1経路34を有する真空チャンバー3と、第1経路34に連通し第1経路34を通過したビームが通過する第2経路40およびワーク2に向けてビームを出射する出射孔78aを有する局所真空チャンバー27と、ビームの照射位置を検出するために、出射孔78a等に配置される被照射部材53を有する検出手段とを備えている。このビーム加工装置1は、ビームを用いて真空チャンバー3および局所真空チャンバー27の外部の大気圧中に少なくとも一部が配置されるワーク2の加工を行う。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

加工対象物の加工を行うためのビームを出射するビーム出射源と、上記ビーム出射源から出射された上記ビームが通過する第1経路を有し上記ビーム出射源が取り付けられる真空チャンバーと、上記第1経路に連通し上記第1経路を通過した上記ビームが通過する第2経路および上記加工対象物に向けてビームを出射するための出射孔を有する局所真空チャンバーと、上記ビームの照射位置を検出するために、上記出射孔から出射される上記ビームの出射方向における上記出射孔の外側または上記出射孔に配置される被照射部材を有する検出手段とを備え、上記真空チャンバーおよび上記局所真空チャンバーの外部の大気圧中に少なくとも一部が配置される上記加工対象物の加工を上記ビームを用いて行うことを特徴とするビーム加工装置。

IPC (5件)：

B23K 15/00 , B23K 26/00 , B23K 26/08 , B23K 26/42 , G21K 5/04

FI (6件)：

B23K15/00 508 , B23K26/00 P , B23K26/08 D , B23K26/42 , B23K15/00 504D , G21K5/04 A

Fターム (7件)：

4E066BA13 , 4E066BC04 , 4E066BE02 , 4E068CA17 , 4E068CC02 , 4E068CD02 , 4E068CE04

引用特許：

出願人引用 (3件)

集束イオンビーム加工方法および集束イオンビーム加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-209997 出願人：野口裕之, 村川正夫
電子ビーム加工機
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-335552 出願人：アイシン・エィ・ダブリュ株式会社, 三菱電機株式会社
集束イオンビーム加工観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-315916 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (8件)

真空装置及び真空装置における真空維持方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-048447 出願人：ソニー株式会社
電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-187840 出願人：キヤノン株式会社
試料の断面評価装置及び試料の断面評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-259826 出願人：キヤノン株式会社

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