特許
J-GLOBAL ID：200903002725223828
チャンバー内の堆積物のモニター方法,プラズマ加工方法,ドライクリーニング方法及び半導体製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-116077
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036102
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 ドライエッチング,プラズマCVD等のプラズマを利用した加工を行う際のプロセス管理及びプロセス制御を改善する。【解決手段】 例えばドライエッチング工程において、エッチング副生成物より形成されるチャンバー1の内壁面に付着した堆積物11に含まれる特定原子間の結合を、赤外線を用いて観察する。モニター用光源8で発生した入射赤外線12を堆積物11に照射し、堆積物11を通過した通過赤外線13の吸収スペクトルを赤外線検出器14で検出する。これにより、チャンバー1内の正確な情報を得ることができ、エッチング特性のバラツキやパーティクル発生などによる歩留まり低下を防止できる。また、それぞれの赤外吸収スペクトルの特定の変化量を基準にして、メンテナンス周期の最適化を行なうことにより、装置稼働率を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
チャンバーの一部に、光,X線,電子線を含む電磁波のうち少なくともいずれか1つの電磁波の透過が可能な電磁波用窓を形成しておき、上記チャンバーの外部から上記電磁波用窓を介して上記電磁波を上記チャンバー内に入射させ、上記チャンバー内の堆積物を通過した電磁波をチャンバーの外部に取り出し、取り出された上記電磁波の上記堆積物による吸収を検知することにより、上記堆積物の状態をモニターすることを特徴とするチャンバー内の堆積物のモニター方法。
IPC (9件)：
H01L 21/3065
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, G01J 3/42
, G01N 21/35
, H01L 21/205
, H01L 21/304 341
, H01L 21/31
, H05H 1/46
H01L 21/302 E
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, G01J 3/42
, G01N 21/35 Z
, H01L 21/205
, H01L 21/304 341 D
, H01L 21/31 C
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 C
