特許

J-GLOBAL ID：200903002744719249

磁気中性線放電プラズマ発生装置

発明者： 国部 利寿 ,  林 俊雄
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-289942
公開番号（公開出願番号）：特開2001-110597
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：

【要約】【課題】コンパクトでメンテナンス性の良い磁気中性線放電プラズマ発生装置を提供する。【解決す手段】本磁気中性線放電プラズマ発生装置は、磁気中性線から成る環状ループを形成する磁場発生手段が一つの環状電磁石と一つの環状永久磁石で構成されることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

真空チャバー内に磁場零の磁気中性線から成る環状ループを形成する磁場発生手段と、その環状ループの近傍にループに沿って設けられ、誘導結合により放電プラズマを形成させる高周波アンテナとを有する装置において、磁気中性線から成る環状ループを形成する磁場発生手段を一つの環状電磁石と一つの環状永久磁石で構成したことを特徴とする磁気中性線放電プラズマ発生装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 14/48 ,  C23C 16/50 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/265

FI (6件)：

H05H 1/46 M ,  C23C 14/48 Z ,  C23C 16/50 Z ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/265 603 A

Fターム (10件)：

4K029BD01 ,  4K029DC35 ,  4K029DC40 ,  4K029DC41 ,  4K029DC43 ,  4K030FA04 ,  4K030KA30 ,  4K030KA34 ,  5C030DD01 ,  5C030DE07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 放電プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-052418   出願人：日本真空技術株式会社
• 反応性イオンエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-046068   出願人：日本真空技術株式会社