特許
J-GLOBAL ID：200903009269646783
反応性イオンエッチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-046068
公開番号（公開出願番号）：特開平11-241190
出願日： 1998年02月26日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：
【要約】【課題】本発明は、形成されるプラズマの均一性を良くし、エッチング均一性を高めることのできる反応性イオンエッチング装置を提供する。【解決手段】本発明は、高周波コイルの接地部にコンデンサーを配置し、高周波コイルへの電力導入出部に対して対称に配置して、高周波コイルにおける電力導入の時間平均値が導入部付近と接地部付近で同じになるように構成したことにある。
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内に連続して存在する磁場ゼロの位置である環状磁気中性線を形成するための磁場発生手段を設けると共に、この磁気中性線に沿って高周波電場を加えてこの磁気中性線に放電プラズマを発生するための高周波コイルを設けてなるプラズマ発生装置を有し、ハロゲン系のガスを主体とする気体を真空中に導入し、低圧でプラズマを形成すると共に導入気体をプラズマ分解し、発生した原子、分子、ラジカル、イオンを積極的に利用し、プラズマに接する基板電極に交番電場或いは高周波電場を印加して電極上に載置された基板をエッチングする反応性イオンエッチング装置において、真空チャンバー内に環状磁気中性線を形成する複数の磁場コイルを真空チャンバーの外部にし、真空室の下部に高周波バイアスを印加する基板電極を設け、真空チャンバーの壁の一部を誘電体で構成しその外部にプラズマを発生するための高周波アンテナコイルを配置し、高周波アンテナコイルの高周波電力導入部及び接地部にコンデンサーを設けて高周波電力を導入するように構成したことを特徴とする反応性イオンエッチング装置。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
C23F 4/00 G
, H05H 1/46 A
, H01L 21/302 B
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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