特許
J-GLOBAL ID：200903002760359783
フォトマスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-274684
公開番号（公開出願番号）：特開平10-123692
出願日： 1996年10月17日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：
【要約】【課題】孤立ラインパターンのフォーカス特性はベストフォーカス付近でも急な傾斜を示す。このフォーカス特性の傾きを補正することにより正確な寸法制御を可能する。【解決手段】透明基板上3には、孤立ラインパターンが形成されており、これをメインパターン1として半透明補助パターン2が左右に3本づつ配置している。ここで、半透明補助パターン2はメインパターン1と同寸法であり、その透過率は25%とした。メインパターン1のフォーカス特性は半透明補助パターン2で生じる位相差により変化し、位相差を20〜40度とすることにより平坦なフォーカス特性が得られる。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光パターンと半透明補助パターンが形成されたフォトマスクに於いて、前記半透明補助パターンを透過する光と前記透明基板の透明領域を透過する光に位相差を生じさせ、前記遮光パターンのフォーカス特性を平坦にしたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
