特許
J-GLOBAL ID：200903002798498744

レジスト用現像液

発明者：
野本 昌吾

野本 昌吾 について

, 
酒井 章充

酒井 章充 について

, 
北澤 宏造

北澤 宏造 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357683
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258920
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】微細なレジストパターンにおいても、溶解部に対しては溶解性を促進し非溶解部に対しては溶解性を抑制する、溶解選択性に優れ、より短い時間で現像しうるレジスト用現像液を提供すること。【解決手段】塩基性化合物A及び分子中にフェノール性水酸基とカルボキシル基とを有する有機化合物Bから選ばれた1種以上、及び/又は塩基性化合物Aと有機化合物Bとから形成された塩Cから調製されてなるレジスト用現像液、塩基性化合物Aと、分子中にフェノール性水酸基とカルボキシル基とを有する有機化合物Bとから形成された塩Cを含有してなるレジスト用現像液、さらに塩基性化合物A及び/又は有機化合物Bを含有してなる前記レジスト用現像液及びさらにアルキレンオキサイド化合物を含有してなる前記レジスト用現像液、並びに該現像液を用いてレジストを現像する現像方法。
請求項（抜粋）：
塩基性化合物A及び分子中にフェノール性水酸基とカルボキシル基とを有する有機化合物Bから選ばれた1種以上、及び/又は塩基性化合物Aと有機化合物Bとから形成された塩Cから調製されてなるレジスト用現像液。
IPC (2件)：
G03F 7/32 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 7/32 ,  H01L 21/30 569 E
引用特許：
審査官引用 (24件)
  • 特開平1-223447
  • ポジ型感光性平版印刷版
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-225335   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • 特開平1-223449
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM