基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-181445
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358134
出願日： 2000年06月16日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】デバイス構造の変化があってものエッチング性能を維持できる。【解決手段】ウエハWに所定の処理を行う基板処理装置において、ウエハWにエッチング処理を行うための処理部10と、処理部10にあるウエハWにフッ素系不活性液体、有機溶媒であるイソプロピルアルコール(IPA)及びフッ酸を含む処理液を供給する処理部27と、を備える。

請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に所定の処理を行う基板処理装置において、基板に処理を行うための処理部と、前記処理部にある基板にフッ素系不活性液体、有機溶媒及びフッ酸を含む処理液を供給する処理液供給手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/308 , C09K 13/08 , H01L 21/304 647

FI (3件)：

H01L 21/308 G , C09K 13/08 , H01L 21/304 647 A

Fターム (11件)：

5F043BB27 , 5F043BB30 , 5F043DD30 , 5F043EE03 , 5F043EE07 , 5F043EE12 , 5F043EE24 , 5F043EE25 , 5F043EE35 , 5F043EE36 , 5F043GG10

引用特許：

審査官引用 (8件)

弗化水素を含有する弗素化溶媒組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-573535 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
オゾン含有浄化液、その製造方法及び浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-168269 出願人：ペルメレック電極株式会社
オゾンを含むフッ素化溶媒組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-572661 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー

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