特許
J-GLOBAL ID：200903050140583238

オゾン含有浄化液、その製造方法及び浄化方法

発明者：
加藤 昌明

加藤 昌明 について


出願人/特許権者：
ペルメレック電極株式会社

ペルメレック電極株式会社 について


代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-168269
公開番号（公開出願番号）：特開2000-355699
出願日： 1999年06月15日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：
【要約】【課題】 オゾン水が電子機器洗浄用として広く利用されているが、オゾンの水に対する溶解度が低いため、高濃度オゾンによる洗浄は実施できず、高速化及び高密度化が要請される電子機器産業に十分応えることができなかった。【解決手段】 電解槽1で生成するオゾン含有ガスをハロゲンを含有する有機溶媒10に溶解して生成するオゾン含有浄化液。オゾンの有機溶媒に対する溶解度が高いため、又ハロゲンを含有する有機溶媒自体が浄化能力を有するため、本発明の浄化液は従来のオゾン水と比較して格段の浄化能を有する。更にオゾンが水中よりも有機溶媒中で安定であるため、より長寿命の浄化液が得られる。
請求項（抜粋）：
オゾン含有ガスをハロゲンを含有する有機溶媒に溶解させたことを特徴とするオゾン含有浄化液。
IPC (4件)：
C11D 17/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/304 647
FI (4件)：
C11D 17/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/304 647 A
Fターム (7件)：
4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DA17 ,  4H003DB03 ,  4H003ED19 ,  4H003EE03 ,  4H003FA27
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-095086   出願人：三菱電機株式会社
  • 漂白・脱臭・殺菌方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-182079   出願人：株式会社白洋舎
  • 洗浄方法および洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-150608   出願人：株式会社東芝, ジャパン・フィールド株式会社
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