基板処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-024659
公開番号（公開出願番号）：特開平11-224873
出願日： 1998年02月05日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】リンス処理の完了時点を正確に判断することができ、しかも、正確に濃度制御を行うことができる。【解決手段】基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、処理液で基板の表面処理を行う基板処理部1と、排出された処理液を再び基板処理部1へ供給する循環路2と、処理液を循環させる処理液循環ポンプ5と、循環路2に一端が連通接続され、他端が純水供給源に連通接続されている純水供給路3と、循環路2に一端が連通接続され、他端に連通接続されている薬液供給源から循環路2への薬液を注入するために、薬液供給路16が循環路2に連通接続されている薬液注入部4と、処理液の濃度を測定する濃度測定センサ8と、測定された処理液の濃度に基づいて、薬液注入部4を操作して処理液の濃度を制御する制御部30Aとを備えている。

請求項（抜粋）：

基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、前記基板処理部から排出された処理液を再び前記基板処理部へ供給する循環路と、前記循環路内の処理液を循環させる処理液循環手段と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が純水供給源に連通接続されている純水供給路と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が薬液供給源に連通接続されている薬液供給路と、前記薬液供給路から前記循環路へ注入される薬液の注入量を調節する薬液注入量調節手段と、前記循環路内を流通する処理液の濃度を測定する濃度測定手段と、前記濃度測定手段により測定された処理液の濃度に基づいて、前記薬液注入量調節手段を制御する制御手段と、を備えていることを特徴とする基板処理装置。

引用特許：

審査官引用 (6件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-056424 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロンエフイー株式会社
濃度制御方法及びこれを利用した基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-070785 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-096234

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