特許
J-GLOBAL ID:200903002960834516

シリコアルミノホスフェート異性化触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人小田島特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-500764
公開番号(公開出願番号):特表2009-530090
出願日: 2007年03月20日
公開日(公表日): 2009年08月27日
要約:
アルミナ、シリカアルミナ、チタンアルミナおよびその混合物よりなる群から選択されるマトリックス;SAPO-11モレキュラーシーブを含んでなる該マトリックス中に実質的に均一に分布している担持媒体;ならびに該媒体上に担持され且つ白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウムもしくはその混合物よりなる群から選択される金属を含んでなる約0.1〜約1.0wt%(触媒系の総重量に基づく)の触媒活性金属相を含んでなる炭化水素系供給原料を処理するための触媒系。該触媒系は、該SAPO-11モレキュラーシーブが:a)約0.08〜約0.24のシリカ対アルミナのモル比率;b)約0.75〜約0.83のリン対アルミナの比率;c)少なくとも約150m2/gの表面積;d)約250〜約600オングストロームの範囲内の結晶子サイズ;およびe)約2000重量ppm未満のナトリウム含有量を有することを特徴とする。
請求項(抜粋):
アルミナ、シリカアルミナ、チタンアルミナおよびその混合物よりなる群から選択されるマトリックス;SAPO-11モレキュラーシーブを含んでなる該マトリックス中に実質的に均一に分布している担持媒体(support medium);ならびに該媒体上に担持され且つ白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウムもしくはその混合物よりなる群から選択される金属を含んでなる0.1〜1.0wt%(触媒系の総重量に基づく)の触媒活性金属相を含んでなる炭化水素系供給原料(feed)を処理するための触媒系であって、該SAPO-11モレキュラーシーブが: a)約0.08〜約0.24のシリカ対アルミナのモル比率; b)約0.75〜約0.83のリン対アルミナの比率; c)少なくとも約150m2/gのミクロ表面積(MiSA); d)約250〜約600オングストロームの範囲内の結晶子サイズ;および e)約2000重量ppm未満のナトリウム含有量(酸化物として測定される) を有することを特徴とする該触媒系。
IPC (3件):
B01J 29/85 ,  C10G 45/64 ,  C10G 65/04
FI (3件):
B01J29/85 M ,  C10G45/64 ,  C10G65/04
Fターム (44件):
4G169AA03 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BC02A ,  4G169BC50A ,  4G169BC59A ,  4G169BC60A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169BD07A ,  4G169BD07B ,  4G169CB41 ,  4G169CB63 ,  4G169CC02 ,  4G169CC14 ,  4G169DA06 ,  4G169EC03X ,  4G169EC03Y ,  4G169EC04X ,  4G169EC05X ,  4G169EC06X ,  4G169EC06Y ,  4G169EC07X ,  4G169EC08X ,  4G169FC08 ,  4G169ZA41A ,  4G169ZA41B ,  4G169ZC04 ,  4G169ZC06 ,  4G169ZC07 ,  4H029CA00 ,  4H029DA00 ,  4H029DA09 ,  4H029DA11
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 米国特許第5,282,958号明細書
  • 国際特許出願公開第WO99/61559号明細書
  • 米国特許第5,817,595号明細書
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審査官引用 (7件)
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