特許

J-GLOBAL ID：200903002992000382

板体処理装置および表面処理方法

発明者： 伊藤 雅樹
出願人/特許権者： 次世代半導体材料技術研究組合
代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-001355
公開番号（公開出願番号）：特開2008-171875
出願日： 2007年01月09日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：

【課題】表面が親水性の場合には、洗浄液のみでの十分な洗浄を可能とし、疎水性の場合には、表面を簡単に親水性化し、その直後に洗浄液を供給して十分な洗浄を可能とし、更に、疎水性の強い膜表面を洗浄する場合に、洗浄液を広く拡がらせ、十分な洗浄を行なわせるようにすることである。【解決手段】回転手段と、前記回転手段で回転させられる板体の上方に配置された第1のノズルAと、前記回転手段で回転させられる板体の上方に配置された第2のノズルBと、前記回転手段で回転させられる板体の回転上流側に配置された第1のノズルに連結された親水性剤貯留タンクと、前記回転手段で回転させられる板体の回転下流側に配置された第2のノズルに連結された薬剤貯留タンクとを具備してなり、前記第1のノズルAから板体1の上に供給された親水性剤の上に前記第2のノズルBからの薬剤が供給されるよう構成されてなる板体処理装置。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

回転手段と、 前記回転手段で回転させられる板体の上方に配置された第1のノズルと、 前記回転手段で回転させられる板体の上方に配置された第2のノズルと、 前記回転手段で回転させられる板体の回転上流側に配置された第1のノズルに連結された親水性剤貯留タンクと、 前記回転手段で回転させられる板体の回転下流側に配置された第2のノズルに連結された薬剤貯留タンクとを具備してなり、 前記第1のノズルから板体の上に供給された親水性剤の上に前記第2のノズルからの薬剤が供給されるよう構成されてなる ことを特徴とする板体処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/30 572B

Fターム (14件)：

4K030BA44 ,  4K030BA48 ,  4K030CA04 ,  4K030DA08 ,  4K030FA01 ,  4K030LA15 ,  5F043AA01 ,  5F043BB28 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046MA07 ,  5F046MA10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-332124   出願人：株式会社ルネサステクノロジ
• 半導体ウェーハの洗浄乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-303958   出願人：三菱住友シリコン株式会社