特許
J-GLOBAL ID:200903003000605993

高周波焼入方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横井 幸喜
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-075247
公開番号(公開出願番号):特開平9-241749
出願日: 1996年03月04日
公開日(公表日): 1997年09月16日
要約:
【要約】【課題】 切削加工性が良好で、焼入性には劣っている材料を良好に輪郭焼入する。【解決手段】 被加熱品を誘導加熱により300°C/秒以上の昇温速度にて1000°C〜1200°Cの温度に急速短時間で予加熱した後、徐冷し、続いて該被加熱品を誘導加熱により1000°C/秒以上の昇温速度にて900°C〜1050°Cで、かつ予加熱温度よりも低い温度に急速短時間で本加熱した後、急冷する。【効果】 予加熱時にCが分散分布することにより本加熱時の均一オーステナイト化が容易になり、切削加工性が良好で焼入性に劣っている材料の歯形状品にも良好に輪郭焼入できる。また、本加熱時の加熱温度を低くできるので、電源装置の負担を軽減し、また、結晶粒の微細化が図れる。
請求項(抜粋):
被加熱品を誘導加熱により300°C/秒以上の昇温速度にて1000°C〜1200°Cの温度に急速短時間で予加熱した後、徐冷し、続いて該被加熱品を誘導加熱により1000°C/秒以上の昇温速度にて900°C〜1050°Cで、かつ予加熱温度よりも低い温度に急速短時間で本加熱した後、急冷することを特徴とする高周波焼入方法
IPC (3件):
C21D 9/32 ,  C21D 1/10 ,  C21D 1/42
FI (3件):
C21D 9/32 A ,  C21D 1/10 A ,  C21D 1/42 M
引用特許:
審査官引用 (4件)
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